통합투자세액공제의 연구개발시설 확대와 반도체 공제율

중소기업 세제혜택

설비에만 붙던 통합투자세액공제가 신성장·국가전략기술의 연구개발시설까지 넓어졌고 반도체 분야에는 별도로 높은 공제율이 신설되었습니다.

통합투자세액공제의 대상 시설이 넓어졌습니다

조세특례제한법 제24조는 내국인이 기계장치 등 사업용 자산에 투자하면 그 투자가 이루어진 과세연도의 소득세나 법인세에서 기본공제와 추가공제를 더한 금액을 공제해 주는 통합투자세액공제를 정하고 있습니다. 2025년 3월 14일 개정으로 공제 대상 시설의 범위가 넓어졌는데, 종전에는 신성장·원천기술이나 국가전략기술을 사업화하기 위한 시설만 우대 대상이었던 것에 더해 신성장·원천기술의 연구개발을 위한 연구·시험용 시설과 국가전략기술의 연구개발을 위한 연구·시험용 시설도 우대 대상에 들어왔습니다. 이 개정 내용은 부칙 적용례에 따라 2025년 1월 1일 이후 투자하는 분부터 적용됩니다.

같은 개정으로 반도체 분야의 국가전략기술 사업화시설과 연구개발시설이 별도 항목으로 신설되었고 국가전략기술 사업화시설에 대한 투자기한도 2027년 12월 31일에서 2029년 12월 31일로 연장되었습니다. 설비 투자에 한정되어 있던 우대 대상이 연구개발 단계의 투자로 넓어지면서 기술 개발을 위한 시험용 시설을 갖추는 투자도 공제 대상에 포함되는 구조입니다.

공제율은 시설의 성격에 따라 다릅니다

기본공제율은 투자한 시설이 어떤 성격의 자산인지에 따라 정해지며 중소기업을 기준으로 보면 일반 사업용 자산은 100분의 10, 신성장·원천기술의 사업화시설과 연구개발시설은 100분의 12, 국가전략기술의 사업화시설과 연구개발시설은 100분의 25가 적용됩니다. 여기에 이번에 신설된 반도체 분야 국가전략기술 사업화시설과 연구개발시설은 중소기업이 100분의 30, 중소기업에 해당하지 않게 된 뒤 3년 이내의 이행기 기업이 100분의 25, 그 밖의 기업이 100분의 20으로 일반 국가전략기술보다 높은 율이 붙습니다. 중견기업과 대기업에는 각 구분에 따라 이보다 낮은 율이 적용됩니다.

추가공제와 선택 적용

기본공제에 더해, 해당 과세연도의 투자금액이 직전 3년간 연평균 투자금액을 초과하면 그 초과액의 100분의 10을 추가로 공제하며 추가공제 금액은 기본공제 금액의 2배를 한도로 합니다. 조세특례제한법 제24조는 일반 공제방식인 제2호와 임시투자 공제방식인 제3호를 함께 적용받을 수 있는 경우 납세의무자의 선택에 따라 그 중 하나만 적용하도록 정하고 있습니다. 임시투자 방식인 제3호는 2023년부터 2025년이 속하는 과세연도의 투자에 적용된 한시 규정이므로, 2026년 이후에 이루어지는 투자에는 일반 방식인 제2호가 적용됩니다.

공제받지 못한 금액은 사라지나요

통합투자세액공제는 조세특례제한법 제132조의 최저한세 적용대상이므로, 납부할 세액이 없거나 최저한세액에 미달해 그해에 공제받지 못한 부분이 생길 수 있습니다. 이렇게 공제받지 못한 금액은 조세특례제한법 제144조 제1항에 따라 그 과세연도의 다음 과세연도 개시일부터 10년 이내에 끝나는 각 과세연도에 이월해 공제받을 수 있으므로, 당장 공제를 다 받지 못하더라도 이월 기간 안에서 활용하게 됩니다. 다만 공제를 받은 뒤 투자한 자산을 일정 기간 안에 처분하면 공제세액을 추징하는 사후관리가 따르므로, 자산의 처분 계획이 있다면 공제와 함께 처분 시점을 미리 검토해야 합니다.

투자 시점의 판정과 처분 시 추징은 공제 설계에서 함께 봐야 할 부분입니다. 그 구체적인 사후관리는 투자 시점의 판정과 이월공제, 처분했을 때의 추징 편에서 이어서 다룹니다.